鍍膜波長范圍：
193nm~11μm

先進的鍍膜設施：

公司擁有30+種類齊全、性能先進的全套物理氣相沉積鍍膜設施（從日本、美國和德國進口）。包括離子輔助電子槍（EB-IAD），離子濺射（IBS），磁控濺射（MS）等鍍膜機器。

領先的鍍膜開發(fā)能力：

公司擁有業(yè)界優(yōu)秀的鍍膜設計和工藝團隊，

開發(fā)出在各種不同基片上（光學玻璃、光學晶體、Si、Ge等）鍍各種功能用途膜（AR， HR， PR， PBS， NPBS，ITO， 金屬膜等）的鍍膜生產工藝，支持單波長和多波長濾光膜

可以設計和開發(fā)出種類齊全的各種鍍膜產品，包括：

1. 光通訊用的各種濾光片（LWDM，CWDM， XGPONs )

2. 高功率激光鍍膜

3. 生物醫(yī)療用濾光片